AE 為半導體沉積提供全麵的產品組合（hé），包括等離子電源輸送、溫度測量、溫度控製和晶圓控製解決（jué）方案。
AE 等離子功率傳輸、溫度測量、溫度控（kòng）製和晶圓控製解決方案的精確性能和（hé）精密控製有助於提高可重複性和產量。
我們提供（gòng）各種射（shè）頻、直流和脈衝（chōng）直（zhí）流電源輸送係統（tǒng）以及各種匹（pǐ）配網（wǎng）絡，以滿足特定的工藝要求。
通過全麵的解決方案（àn）組合加強工藝（yì）控製
Advanced Energy 的（de）射頻等離子體功（gōng）率傳輸（shū）和高速匹配技術可為要求苛刻的 PECVD 和 PEALD 沉積工藝提供（gòng）性能定製和優化。我們的直流（liú）技術可為 PVD (濺射) 和 ECD 沉（chén）積工藝提供可配置電弧響應、功率精度（dù）和工藝可重複性。 我們（men）還提供溫度監控、溫度控製和（hé）晶圓控製技（jì）術，可在製造工藝的（de）多個環節實現精確控製。
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