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脈衝和直流(liú)電源係統

脈衝和直流電源(yuán)係統

利用 Advanced Energy 全麵(miàn)的直流和脈衝直流套件推進等(děng)離子工藝創新,在提高沉(chén)積率、改善薄膜(mó)平整度(dù)和堆積密度的同時最大限度減少電弧。

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經工(gōng)藝驗證的脈衝直(zhí)流電用於(yú)薄介(jiè)電膜的單磁控管反應濺(jiàn)射

Pinnacle III+脈衝和直流電源係統

Pinnacle Plus+發生器以脈衝配置提供直流電,從(cóng)而實現極其均勻、高質量的介電膜的反應濺射(shè)。 反向脈衝(chōng)期(qī)間(jiān)的電荷清除可防(fáng)止電弧發展 通過頻率和占空比(bǐ)控製可調節過程 緊湊型風冷設計,可擴展至主/衛星配置

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